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旭化成E-Materials開發出可形成大量數百nm級凹凸的防反射薄膜

編輯:hattie 2010-11-15 09:47:44 瀏覽:1287  來源:

    旭化成E-Materials開發出了在樹脂薄膜上形成大量間距及高度為數百nm級凹凸的“納米構造薄膜”,并在“FPD International 2010”上進行了展示。用途是作為防反射薄膜。

    據旭化成E-Materials介紹,通過采用納米構造,可針對可視光直至紅外線的大范圍波長的光線降低反射率。而采用原來基于多層膜的防反射薄膜時,為了擴大薄膜能夠防止反射的范圍,需要增加膜的層數,由此會導致成本增加。采用此次的方法,可通過卷對卷式納米壓印技術連續生產,能夠削減成本。

    對可視光的反射率為0.5%以下。作為基材的樹脂薄膜可使用PET、TAC及PC等。旭化成E-Materials希望能在2010年內或2011年初開始樣品供貨。另外,此次利用的納米壓印技術還應用在了該公司的線柵偏光膜產品上。

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