作為下一代新型顯示材料，量子點屬于無機材料，具有很高的穩定性，但因其容易受到氧氣和水汽的侵蝕，導致熒光猝滅，因此需要采用兩層高阻隔膜和特殊高分子聚合材料包裹量子點來解決氧化、防水等問題。在本次峰會上，三井化學東賽璐株式會社產業用薄膜/板材事業部部長高瀨三男博士特別介紹了東賽璐公司的透明阻隔膜、高度耐用型阻隔膜材料以及在量子點領域的應用。
據介紹，東賽璐公司成立于1929年，已有90年的發展歷史，主要生產各種隔膜，后被三井化學并購，成為三井化學全資子公司。目前東賽璐公司在馬來西亞、泰國和臺灣等地都建有生產工廠，其中60%用于一般包裝用的阻隔膜，20%用于機能性板材，20%用于產業用阻隔膜。
關于阻隔膜的生產方式，高瀨三男表示，“一種是物理性的PVD，一種是化學性的CVD，東賽璐公司采用PVD法里的真空鍍膜法。”他介紹，量子點阻隔膜主要有兩個類型的分類：一個是鍍氧化鋁，一個是鍍氧化硅。
高瀨三男表示，“PVD法需要多層鍍膜，成本也會比較高。”他也介紹，東賽璐公司之前所開發的一款超耐久性的阻隔膜，具有超高的阻隔性能，而且透過率和柔軟度非常好，可以用于OLED，“基本上完全可以取代玻璃，沒有任何問題。”
高瀨三男介紹，阻隔膜的氧化硅和氧化鋁的主要區別：氧化鋁的透明度很高，主要用于食品包裝，成本也很便宜，但耐受性不好；而度氧化硅耐藥性、耐酸性都非常好，同時薄膜本身的穩定性非常好，與各個薄膜之間的附著性非常好，“不好的地方有一點點偏黃，主動管理比較難，成本比較高一些。”
高瀨三男也分享了東賽璐公司簡單的生產工藝圖，其阻隔膜產品利用PVD方法鍍膜以后另外加一層Coating層，通過這個層可以對PVD層做補充。他介紹，東賽璐公司并不生產PET原膜，而是通過供應商合作，共同開發出適合于阻隔膜的PET膜，然后先進行MD方向延伸，再進行TD方向延伸，然后上層做一個貼合處理。他表示，“東賽璐公司通過電子的照射讓氧化硅均勻的涂布到PET膜上。我們的產品最基礎的原材只有25微米，會做PVD的涂層；上面有一個Coating層，主要是有機物，通過厚度的控制，實驗室得出的數據是10-6。我們會在25微米的PET上涂10-20納米的氧化硅的涂層。”
高瀨三男也介紹，與現在市場上其他公司產品的對比，東賽璐公司的MCTI產品優勢很明顯，尤其是B類型的產品因為數據很好，但生產成本比較高。因此，目前東賽璐公司A類型的產品，其對水蒸氣和氧氣的阻隔率和其他公司在同一個水準上。
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