東進(jìn)半導(dǎo)體與三星電子合作，成功開發(fā)了超細(xì)半導(dǎo)體加工必不可少的材料——極紫外（EUV）光刻膠（PR）。
東進(jìn)化成華城園區(qū)鳥瞰圖
東進(jìn)半導(dǎo)體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR可靠性測試（Qual）。一位熟悉此事的業(yè)內(nèi)人士表示，“Dongjin Semichem 在其位于京畿道華城的工廠開發(fā)了 EUV PR，并在三星電子的華城 EUV 生產(chǎn)線上對其進(jìn)行了測試，并獲得了最終質(zhì)量。”他說。
在韓國，用于氟化氪 (KrF) 和氟化氬 (ArF) 工藝的 PR 已大量生產(chǎn)，但沒有用于可以繪制更精細(xì)電路的 EUV 的 PR。那是因?yàn)樗茈y開發(fā)。韓國使用的 EUV PR 大部分是從日本進(jìn)口的。EUV PR是2019年日本三大出口限制之一。此款光刻膠打破了韓國EUV光刻膠完全依賴海外供應(yīng)商的局面。
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