Fuji Film發表新開發出，具有高穿透率、彎曲性之透明導電薄膜。主要將用于觸控面板，以取代ITO薄膜為目標。新產品在1月19日~21日于東京舉行之先端電子材料EXPO上，展出試作品。Fuji Film乃應用Negative Film技術，藉由高感度銀鹽、數字曝光，成功開發出新型透明導電薄膜。薄膜上之配線，可任意搭配網狀、波線狀等形狀。
此外，薄膜兩面皆可成形。使用ITO進行兩面配線時，則需要貼合兩片電極。使用此次開發出的新產品因不需要該程序，可簡化制程。而且由于表面與背面之電極相對位置不會產生偏離狀況，理論上不會出現感度不一致之現象。另不僅平面，亦可支持3D之成形加工。
新產品之特性為在光穿透性約94%之狀況下，薄膜電阻值為50Ω。Fuji Film表示，在光穿透性約94%之狀況下，2011年度中可開發完成電阻值降低至一位數的薄膜。一般而言，光穿透率與電阻值存在正向連動關系，光穿透率提高，電阻值亦會隨之大增。如何克服此問題，成為廠商開發新產品之重要課題。
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