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田口法探討OLED設備ITO表面誘發變異

編輯:admin 2011-12-23 10:38:04 瀏覽:1870  來源:中華液晶網

  1.前言

  當OLED漸漸在電子產品上大量生產,OLED的制造已吸引許多科學家去制定最適宜的處理條件,ITO已廣泛在OLED上當作正極使用,而且不同表面誘發變異以被報導出來為了要改進設備性能,這些表面處理包括氧離子、紫外線-臭氧、氧炙熱發電、化學藥品、酸和基層吸附如同那些處理結合。

  在本文中我們以田口法報告ITO表面誘發變異,我們使用4種不同方法在ITO樣本的表面處理:機械、化學、紫外線-臭氧和氧離子處理,結果對OLED制造有較佳發光效率。

  2.實驗

  田口法廣泛地被使用于工業研究和性質控制,它是方便接近達最佳處理條件從限制實驗數據和獲得某些交互作用信息在這些因子之間,我們使用L9(34)直交表去評估每個機械過程和化學處理,從那些結果隨同S/N比,我們可以對表面處理建立最佳化條件,最后我們使用L18(2 1 × 37)直交表調合結合因子和獲得OLED設備最佳化條件。

  在化學處理,我們選擇HCl/HNO3、酸/H2O、溫度、時間當作因子。在機械過程,我們選擇壓力、Al2O3/酒精、磨光速度比當作因子。

  2-1.化學處理

  化學處理在這報告主要在能燙平ITO-涂料玻璃表面的過程,下層在HCL和HNO3的超音波浴中最先被洗,處理溫度分別為100、200、300 ℃,反應時間分別為10、20、30秒,HCl和HNO3的比率分別為3:1、4:1、5:1,酸和H2O的比率分別為1:3、1:4、1:5,ITO-玻璃下層由蒸餾水清洗而最后用氮氣來干燥。

  2-2.機械過程

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